Rövid leírás
A jelen találmány új típusú mikrostrukturálásra irányul. Közelebbről tekintve, a jelen találmány szilárd anyagok, különösen fémek, szerkezet által meghatározott spektrumának, így elsősorban azok abszorpciós és/vagy emissziós spektrumának ellenőrzött módon történő módosítására, adott esetben szerkesztésére szolgáló eljáráshoz kapcsolódik. Speciálisan, a jelen találmány tárgya olyan újfajta litográfiás eljárás, amelynek eredményeként előre meghatározott spektrummal rendelkező komplex mikrostruktúrák állíthatóak elő viszonylag nagy fizikai kiterjedésű térrészben legalább egy, ennél előnyösebben pedig legalább két térbeli irányban.